첨단 컴퓨터 칩 기술을 위한 감광제 제거 공정 개발이 첫 목표
노벨러스 시스템, IBM과 CNSE(College of Nanoscale Science and Engineering)는 CNSE 알바니 나노테크 연구단지에서 22 나노와 그 이하 나노 전자공학 기술을 위한 반도체 공정 개발을 목표로 전략적 제휴를 맺었다고 발표했다.
오늘날 대량생산되고 있는 최첨단 반도체는 45나노 및 32나노 회로이며 28나노 및 그 이하 세대는 개발 중에 있다. 다음 기술 세대로의 이동으로 서버에서 스마트폰에 이르는 제품들의 성능을 개선하는 더 작고 빠르며 보다 효율적인 칩이 생겨나고 있다. 노벨러스도 다음 기술세대로의 이동으로 초래되는 문제점들을 극복하기 위해 CNSE 알바니 나노테크 연구단지에서 IBM과 기술 파트너사들 그리고 CNSE 연구 팀과 함께 하는 반도체 회사들의 협력체에 가입했다.
이 협정에서의 첫 과제는 28나노 및 22나노 노드의 첨단 공정을 위한 진보되고 잔류물 없는 감광제 제거 기술을 개발하는 것이다. 감광제 제거는 반도체 칩 내에 배선을 결정하기 위한 중요한 공정 과정이다. 공동연구의 범위는 high-k metal gate 기술과 호환 가능한 고농도 이온 주입 제거 (HDIS) 공정 및 ultra-low-k 유전체 설비에 사용되는 손상 없는 에칭 기술을 포함하는 감광제 제거 공정들을 총망라한다.
IBM은 28나노 및 그 이하 나노의 기술개발을 가속화 할 수 있는 풍부한 반도체 기술 경험과 검증된 기술 개발력 및 생산력을 가지고 협력하고 있다. 노벨러스의 진보적인 감광제 제거 플랫폼 GxT는 이스트 피쉬킬의 IBM 공장과 CNSE 알바니 나노테크 연구단지에서 새롭고 정교한 제거 애플리케이션에 사용될 예정이다. 노벨러스는 GxT를 이용하여 0.1 나노 이하로 실리콘과 산화물 손실을 줄일 수 있는 특수하고 산화되지 않는 제거 용액을 사용해 업계 최고의 세정 결과를 보여주었다. CNSE는 학계에서 가장 앞선 알바니 나노테크 연구단지에서 세계적 수준의 지식 자본과 전례 없는 기술설비를 제공한다.
IBM의 공정개발 부사장 폴 페라 (Paul Farrar)는 “IBM은 업계를 선도하는 high-k metal gate 트랜지스터 구조를 위한 진보된 감광제 제거 기술을 최적화하는 것을 목표로 시작한 새로 출범한 기술협력체 내에서 노벨러스 그리고 CNSE와 함께 신념을 다해 협력할 것입니다” 라고 말하며 “CNSE 알바니 나노테크 연구단지에서의 세계적 기업들과의 컨소시엄을 통해 장비 제공업체들과 긴밀한 협력관계를 맺는 것은 IBM과 IBM의 협력사들이 선도적인 기술을 시장에 선보이도록 하는데 매우 중요한 요소입니다”라고 덧붙였다.
노벨러스의 글로벌 영업 및 마케팅과 고객만족 부문 수석 부사장인 팀 아처 (Tim Archer)은 “IBM은 최첨단 반도체 생산 공정개발로 오랜 명성을 쌓아왔습니다”고 말하며 “노벨러스는 감광제 제거와 세정 기술을 개선하는데 중점을 둔 전략적 협력을 통해 IBM과 CNSE와 함께 일하게 되어 무척 고무 되었습니다.”라고 강조했다.
CNSE의 전략, 협력 및 컨소시엄을 담당하는 리챠드 브릴라 (Richard Brilla) 부학장은 “알바니 나노스케일 과학 공과대학은 나노 전자 제조공업을 지원하게 될 혁신적인 기술 개발과 실행을 가속화하도록 노벨러스와 IBM과 같은 업계 선도 기업들과 파트너십을 맺기를 고대합니다”며 “이 공동연구는 업계의 첨예한 요구사항들을 해결할 수 있는 최첨단 공정과 장비 기술을 통합시키며 더 나아가 IBM과 그 협력 파트너 기업들의 기술 리더십을 보여줍니다”라고 말했다.
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기자 : 뉴스관리자 기자 
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